総合研究棟6F、FROM香川をご利用の皆様

平素より大変お世話になっております。

近年の金価格の高騰に伴い、材料としての金の使用料を改定させていただくこととなりました。

誠に恐縮ではございますが、事情をご賢察のうえ、何卒ご理解とご協力を賜りますようお願い申し上げます。

なお、利用料金は、材料使用量に基づいて算出いたします。

装置利用の際には、材料使用量をログブックへ必ずご記入くださいますよう、重ねてお願い申し上げます。

1．改定の概要

従来の1日あたりの金額から、金価格（時価）および使用量に基づく算出方式へ変更します。

金価格は前月の時価を基準として計算します。

2．改定内容

・金蒸着　真空蒸着装置（ULVAC社製VPC-1100）

改定前：8,000円/日

改定後：真空蒸着1回あたりの金額＝ 金価格 × 使用量

・金スパッタ　デュアルイオンビームスパッタ装置（ハシノテック社製10W-IBS）

改定前：16,000円/日

改定後：目標成膜10nmにつき1,500円

3．改定時期

2026年4月ご利用分より、改定後の算出方式を適用いたします。

4．金価格（時価）について

金価格につきましては、下記資料を参照し、前月の価格に基づいて算出いたします。

参照先：田中貴金属工業株式会社 ホームページ「産業用相場情報」

　　　　https://tanaka-preciousmetals.com/jp/library/rate/

以上、ご質問等がございましたら、スタッフ（device-staff@googlegroups.com）までお願いいたします。