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装置のご紹介(A4, 1枚)

描画装置

装置名 詳細 資料 動画
電子線描画装置 エリオニクス社製
 ELS-7500EX
 加速電圧:50kV,30kV,20kV
 フィールドつなぎ精度50nm 以下
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マスクレス露光装置 大日本科研社製
 MX-1204
 光源:LD (375±5 nm)
 描画精度:最小線幅 1 um程度
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加工装置

装置名 詳細 資料 動画
ドラフトチャンバ
(有機・無機)
DALTON社製
 PAU-1600BEW(有機)
 BCD-1-1600BEW(無機)
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スピンコータ ミカサ社製
 1H-DX2
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片面マスクアライナ ミカサ社製
 MA-10型
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両面マスクアライナ ズース・マイクロテック社製
 MA6 / BA6
マグネトロン
スパッタリング装置
芝浦メカトロニクス社製
 CFS-4EP-LL(!-Miller)
真空蒸着装置 ULVAC社製
 VPC-1100
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デュアルイオンビーム
スパッタ装置
ハシノテック社製
 10W-IBS
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酸化/拡散炉 DSL社製
 VESTA-2100
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シリコン深堀エッチング装置 SPPテクノロジーズ社製
 MUC-21 ASE Pegasus
反応性イオンエッチング装置 サムコ社製
 RIE-10NR
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イオンシャワー エリオニクス社製
 EIS-200ER
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ダイシングマシン DISCO社製
 DAD3220
 ウエハ厚み:最大1mm以下
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ワイヤボンダ WEST・BOND社製
 Model 7KE

評価装置

装置名 詳細 資料 動画
走査電子顕微鏡(EDS付き) JEOL社製
 JSM-6060-EDS
 加速電圧:30kV,EDS元素分析
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高倍率デジタル
マイクロスコープ
ハイロックス社製
 KH-7700
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ウエハプローバ カール・ズース社製
 PM5
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触針式表面形状測定器 アルバック社製
 DekTak8
 測定分解能:最小:0.1nm
 測定再現性:1nm以下
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イオンコータ JEOL社製
 JFC-1600
準備中
エリプソメータ 溝尻光学社製
 DHA-XA/M8
 膜厚と屈折率を測定可能
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白色干渉式三次元形状測定器 ブルカー・エイエックスエス社製
 NT91001A-in motion
  in-situ駆動観察
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レーザー式三次元形状計測器 三鷹光器社製
 NH-3N
 測定分解能:0.1×0.1×0.01μm
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4深針型薄膜抵抗率計 エヌピイエス社製
 KS-TC-40-SB-VR
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※ 「※」が付く装置は香川県が保有する装置であり、使用条件が異なりますので、
  お問い合わせ下さい。
※ 当該支援リスト外の装置(電子・光・バイオ応用関連の装置)もご利用頂くことが可能です。

 
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