• 「自動接触角計 SImage AUTO 100(成形装置群)」を導入し、運用を開始しています。
    2026.03.04
    お知らせ
    新規導入装置のお知らせ
  • 総合研究棟6F、FROM香川をご利用の皆様  平素より大変お世話になっております。 近年の金価格の高騰に伴い、材料としての金の使用料を改定させていただくこととなりました。誠に恐縮ではございますが、事情をご賢察のうえ、何卒ご理解とご協力を賜りますようお願い申し上げます。 なお、利用料金は、材料使用量に基づいて算出いたします。装置利用の際には、材料使用量をログブックへ必ずご記入くださいますよう、重ねてお願い申し上げます。 1.改定の概要従来の1日あたりの金額から、金価格(時価)および使用量に基づく算出方式へ変更します。金価格は前月の時価を基準として計算します。 2.改定内容・金蒸着 真空蒸着装置(ULVAC社製VPC-1100)改定前:8,000円/日改定後:真空蒸着1回あたりの金額= 金価格 × 使用量 ・金スパッタ デュアルイオンビームスパッタ装置(ハシノテック社製10W-IBS)改定前:16,000円/日改定後:目標成膜10nmにつき1,500円 3.改定時期2026年4月ご利用分より、改定後の算出方式を適用いたします。 4.金価格(時価)について金価格につきましては、下記資料を参照し、前月の価格に基づいて算出いたします。参照先:田中貴金属工業株式会社 ホームページ「産業用相場情報」    https://tanaka-preciousmetals.com/jp/library/rate/ 以上、ご質問等がございましたら、スタッフ(device-staff@googlegroups.com)までお願いいたします。
    2026.03.02
    お知らせ
    【ご案内】材料費(⾦)の価格改定のお知らせ
  • 文部科学省マテリアル先端リサーチインフラ(ARIM)高度デバイス領域と東北大学マイクロシステム融合研究開発センター(μSIC)により、デバイス・プロセス開発におけるデータ利活用をテーマとした合同研究会が開催されます。先端加工技術や計測データ利活用の最新動向を共有し、デバイス・プロセス開発の高効率化、高度化に向けた課題と展望について議論されます。皆様、是非ご参加ください。 ■開催日間:2026年3月13日(金)13:00~※終了後交流会■会場:東京都中央区日本橋室町1丁目7-1 スルガビル7階■共催:文部科学省マテリアル先端リサーチインフラ(ARIM)高度デバイス領域/東北大学マイクロシステム融合研究開発センター(μSIC)/MEMSパークコンソーシアム(MEMSPC)■参加費:無料(研修会終了後交流会参加費2,000円、MEMSPC 会員企業は1名無料)■内容:以下のPDFファイルをご参照ください■参加申込:以下GoogleForm または、事務局E-mailかFAXhttps://forms.gle/3qcFjsiPuyVxqwEY7(参加申込〆切:2026年3月6日)■問い合せ先(研究会事務局):東北大学マイクロシステム融合研究開発センター(μSIC)大高剛一/早川昌子koichi.ohtaka.e8@tohoku.ac.jpmasako.hayakawa.b1@tohoku.ac.jpTEL 022-229-4116 /FAX 022-229-4113
    2026.01.14
    お知らせ
    半導体デバイス・プロセス開発におけるデータ利活用をテーマとしたARIM 高度デバイス領域/μSIC合同研究会が開催されます
  • 2026年1月9日より、以下のとおり半導体パラメータアナライザーおよび小型イナートガスオーブンの運用を開始いたします。 [設置場所]半導体パラメータアナライザー(Agilent B1500A):総研棟6F 分析測定室小型イナートガスオーブン(光洋サーモシステム株式会社、KLO-30NH):FROM香川 クリーンルーム [利用料金]こちらをご参照ください。HP_利用料金  初回利用の際には、事前にデバイスセンタースタッフ(device-staff@googlegroups.com)までご連絡ください。よろしくお願いいたします。
    2025.12.26
    お知らせ
    【お知らせ】1/9運用開始_半導体パラメータアナライザー/小型イナートガスオーブン