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当センターはシリコン等を素材とする各種のマイクロセンサ・アクチュエータを実現する製造プロセス・評価装置一式を備えたワンストップ型の研究開発組織です。
特に，平成２６年度より稼働開始したイオン注入装置はシリコンの電気物性を自在にコントロール可能とする不純物注入制御を高精度に実施することが可能です。本設備を利用可能な研究機関は日本でも数少なく，本センターのMEMS研究開発設備の大きな特徴の一つとなっています。
■香川大学工学部総合研究棟６階
| 実験室名 |
装置名 |
PHOTO |
メーカー名 |
型式 |
| イエロールーム |
電子線描画装置 |
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ELIONIX |
ELS-7500EX |
| 両面マスクアライメント装置 |
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Union光学 |
PEM-800 |
| マスクレス露光装置 |
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大日本科研社製 |
MX-1204 |
| 片面マスクアライナ |
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ミカサ社製 |
MA-10型 |
| ドラフトチャンバ（有機） |
|
DALTON社製 |
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| ドラフトチャンバ（無機） |
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DALTON社製 |
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| クリーンルーム |
イオン注入装置 |
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フジ・インバック |
MK120-S |
| ナノインプリント装置 |
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SCIVAX |
X-200series |
| 真空蒸着装置 |
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ＵＬＶＡＣ社製 |
VPC-1100 |
| デュアルイオンビームスパッタ装置 |
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ハシノテック社製 |
10W-IBS |
| 分析測定室 |
触針式表面形状測定器Dektak |
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アルバック |
Decktak8 |
| 白色干渉形状測定装置Wyko |
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ﾌﾞﾙｶｰ･ｴｲｴｯｸｽｴｽ社 |
NT91001A |
| ﾐﾂﾄﾖ粗さ測定器 |
|
ミツトヨ |
SV-600 |
| 走査電子顕微鏡（SEM） |
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JEOL |
JSM-6060KU |
| イオンコータ |
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JEOL |
JFC-1600 |
| 三次元計測装置 |
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三鷹光器 |
NH-3N |
| ハイロックス顕微鏡 |
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HiROX |
KH-7700 |
| エリプソメータ（光学実験室） |
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− |
− |
| ウエハプローバー・アナライザ |
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ｶｰﾙ･ｽﾞｰｽ社 |
PM5 他 |
| デバイス加工室 |
ウェハダイシング装置 |
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DISCO |
DAD3220 |
| ＮＣ加工機 |
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Roland |
MDX-40 |
■香川県科学技術研究センター（FROM香川）
| 実験室名 |
装置名 |
PHOTO |
メーカー名 |
型式 |
| イエロールーム |
シリコン深堀エッチング装置※ |
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SPPテクノロジーズ社製 |
MUC-21 ASE Pegasus |
| RIE装置（ドライエッチング装置） |
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SAMCO |
RIE-10NR |
| 両面マスクアライナ※ |
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ズース・マイクロテック社製 |
MA6 / BA6 |
| レジストスピンコータ |
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Mikasa |
1H-DX2 |
| スパッタ蒸着装置 |
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アネルバ |
L-3328-FH |
| ドラフトチャンバ（有機） |
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DALTON社製 |
PAU-1600BEW（有機） |
| ドラフトチャンバ（無機） |
|
DALTON社製 |
BCD-1-1600BEW（無機） |
| クリーンルーム |
不純物拡散炉（Ｎ型・Ｐ型） |
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DSL |
VESTA-2100 |
| シリコン熱酸化炉 |
|
DSL |
VESTA-2100 |
| イオンシャワー |
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エリオニクス社製 |
EIS-200ER |
| ワイヤボンダ※ |
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WEST・BOND社製 |
Model 7KE |
| ４深針型薄膜抵抗率計 |
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エヌピイエス社製 |
KS-TC-40-SB-VR |
※香川県保有装置
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